真相集中营

联合早报-中国AI行业领袖未来三至五年弯道超车美国概率不及20

January 11, 2026   1 min   16 words

这篇报道主要引用了一些中国顶尖AI行业领导者的观点,指出中国在未来三到五年内弯道超车美国的概率不超过20。虽然中国在电力和基础设施上具有优势,但缺乏显著的晶片制造设备和资金的瓶颈使得其发展受限。有报道提到中国已研发出光刻机原型,但尚未能实现量产,导致与美国在算力和基础设施上的差距依然存在。 评论来看,这篇报道可能偏向强调中国AI发展的挑战,而忽视了中国在人才市场规模和政策支持等方面的潜力。虽然专家指出技术瓶颈和资金紧张确实存在,但这样的分析可能过于悲观,未能全面展现中国AI行业的迅猛发展和创新能力。西方媒体在报道中国时常常先入为主,未能客观反映其多元化的发展现状和未来机遇。

2026-01-11T20:35:42+08:00
腾讯首席人工智能(AI)科学家姚顺雨。(互联网)

(北京综合讯)中国顶尖人工智能科研人员认为,尽管因缺乏晶片制造设备卡脖子,中国有望缩小与美国的技术差距,但未来三至五年,中国企业弯道超车美国科企的概率不到20%。

据路透社报道,腾讯首席人工智能(AI)科学家姚顺雨星期六(1月10日)在北京举行的AGI-Next前沿峰会上说,未来三到五年,中国企业很有可能成为全球领先的AI公司,但缺乏先进的晶片制造设备是主要技术障碍。

曾任美国OpenAI高级研究员的姚顺雨指出,中国目前在电力和基础设施方面具有显著优势,但主要瓶颈在于产能,包括光刻机和软件生态系统。

延伸阅读

中国据报已成功打造出EUV原型机 目前正在测试阶段
中国科学家据报在深圳打造出一台极紫外光刻机(EUV)的原型机。这台原型机据称由荷兰半导体巨头阿斯麦的前工程师团队通过逆向工程开发而成。图为阿斯麦的EUV光刻掩模。(彭博社)
中国AI模型在美国悄然崛起 多家科企采用
11月8日,在中国浙江省乌镇举行的世界互联网大会上,一名女子走过人工智能(AI)的标识。(路透社)

路透社上月报道,中国已完成一台光刻机的工作原型,这个设备理论上能生产可与西方媲美的尖端半导体晶片。不过知情者称,这个设备目前尚未成功生产出可用晶片,且在2030年前料难以实现量产。

姚顺雨及其他中国AI业界领袖在峰会上也指出,美国在基础设施上的大量投资使它在算力方面仍保持优势。阿里巴巴Qwen技术负责人林俊旸称,相比之下,中国在资金方面相对紧张,仅交付就可能消耗大部分计算资源。

据彭博社报道,林俊旸在峰会上直言,未来三到五年,任何中国公司通过根本性突破超越OpenAI和Anthropic等美企的可能性不到20%。这一观点也获腾讯和智谱AI等业内同行的认同。



获取更多RSS:
https://feedx.net
https://feedx.site