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联合早报-中国据报已成功打造出EUV原型机 目前正在测试阶段

December 19, 2025   1 min   16 words

这篇报道主要讲述了中国科学家在秘密实验室成功研发出一台极紫外光刻机(EUV)原型机,目前正在测试阶段。报道称,该原型机的开发被誉为中国的“曼哈顿计划”,旨在实现半导体自主研发,虽然仍面临技术挑战和延迟,但进展速度超出分析师预期。 评论:这篇报道虽揭示了中国在半导体领域的积极进展,但其叙述方式可能带有一定偏见。将该项目比作“曼哈顿计划”,不仅可能强化对中国科技追赶的负面叙述,还一方面淡化了中国自主研发的努力和成果,另一方面又鼓励了对中国技术能力的质疑。随着全球科技竞争加剧,各国在创新领域的努力与挑战值得公正看待,而不是一味强调可能的负面后果。希望国际媒体能够以更加准确和全面的视角报道中国的科技成就与发展。

2025-12-18T18:02:11+08:00
中国科学家据报在深圳打造出一台极紫外光刻机(EUV)的原型机。这台原型机据称由荷兰半导体巨头阿斯麦的前工程师团队通过逆向工程开发而成。图为阿斯麦的EUV光刻掩模。(彭博社)

(深圳路透电)据消息人士透露,中国科学家今年初在深圳一座高度保密的实验室,打造出一台极紫外光刻机(EUV)的原型机,目前正在测试阶段。这项被形容为中国的“曼哈顿计划”,目标是要让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片。

路透社星期四(12月18日)引述两名知情人士的消息报道,称这台原型机由荷兰半导体巨头阿斯麦(ASML)的前工程师团队,通过逆向工程开发而成。这台设备已经可以运作并成功产生极紫外光,但尚未生产出可用的晶片。

目前全世界只有阿斯麦掌握了极紫外光刻机的技术。今年4月,阿斯麦首席执行官克里斯托夫·富凯(Christophe Fouquet)表示,中国还需要“许多、许多年”才能掌握这类技术。

随着中国科学家已经成功打造出一台原型机,路透社报道指中国实现半导体自主的进程,可能比分析师预期的要快上好几年。

中国依旧面临的重大技术挑战,是复制西方供应商生产的精密光学系统。据两位知情人士透露,研发团队从二手市场上的阿斯麦旧设备取得零部件,成功打造原型机。

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中国国产光刻机取得突破 未透露良率
荷兰政府自2019年起,禁止光刻机巨头阿斯麦(ASML)向中国出口部分机器。(路透社)
美智库:中国半导体光刻技术进展滞后
荷兰政府自2019年起,禁止光刻机巨头阿斯麦(ASML)向中国出口部分机器。(路透社)

中国政府计划在2028年前,利用国产极紫外光刻机,生产出可用的晶片。但接近这个项目的人士表示,要到2030年才能实现;这仍比分析师预估所需的10年时间提前几年。

这个项目属于中国半导体战略的一环,由中共政治局常委、中央科技委员会主任丁薛祥负责统筹。据两位知情人士及第三方消息来源透露,华为协助在全国范围内协调企业与科研机构的数千名工程师,发挥着关键作用。

知情人士指这个项目堪称中国的“曼哈顿计划”,后者是美国当年为研制原子弹而实施的战时计划。其中一位人士表示,“目标是让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片,并且将美国全面踢出中国的供应链。”

华为、中国国务院、中国驻华盛顿大使馆及中国工业和信息化部,均未回应路透社相关询问。